PVD的全稱是Physical Vapor Deposition，即物理氣相沉積。是一種物理狀態(tài)下的物質(zhì)轉(zhuǎn)移過程，可以將原子或分子狀態(tài)下的物質(zhì)從一個物體轉(zhuǎn)移到另一個物體上，從而使其具有更加優(yōu)異的性能。

PVD鍍膜可以在真空環(huán)境下進(jìn)行，這項技術(shù)稱為PVD真空鍍膜。金屬在真空環(huán)境下與各種氣體產(chǎn)生綜合作用形成等離子體，經(jīng)過加速后，等離子體涌向被鍍工件表面，形成牢固的膜層。這層膜細(xì)密均勻，結(jié)合力強，硬度高，防腐耐磨，具有良好的導(dǎo)電性和自潤滑性能，同時色澤豐富多樣。

而且，由于PVD真空鍍膜是在真空環(huán)境下進(jìn)行，而真空中的大物分物質(zhì)已被排出，所以鍍膜的過程受到外界干擾的影響就很小，顏色就不會雜亂，也沒有膜層脫落的后顧之憂


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