當前位置：
PVD涂層主要包括多弧電鍍和磁控濺射電鍍。該多弧電鍍設備結構簡單，易于操作。其離子蒸發(fā)源可由電焊機供電，引弧過程也類似于電焊。具體地說，在一定的工藝壓力下，引弧針與蒸發(fā)離子源短暫接觸，并斷開與放電氣體的連接。由于多弧電鍍的原因主要是通過連續(xù)移動弧斑在蒸發(fā)源表面連續(xù)形成熔池，使金屬蒸發(fā)沉積在襯底上得到薄膜層，與磁控濺射相比，多弧電鍍具有靶材利用率高、金屬離子離子化率高、薄膜與襯底結合力強的優(yōu)點。
多弧涂層的顏色相對穩(wěn)定，特別是在制備氮化鈦涂層時，每批均很容易獲得同樣穩(wěn)定的金黃色，這使得磁控濺射法難以實現(xiàn)。多弧電鍍的缺點是，在使用傳統(tǒng)DC電源作為低溫涂層的情況下，當涂層厚度達到0.3m時，沉積速率接近反射率，使得成膜非常困難。此外，電影的表面開始變得模糊。多弧電鍍的另一個缺點是，由于金屬熔化后蒸發(fā)，沉積的顆粒較大，密度低，耐磨性比磁控濺射差。
PVD涂層可以提供更好的邊緣保持力，防止氧化和腐蝕，在切割過程中保持清潔，并且不會與骨骼、組織或體液發(fā)生反應。因此，它越來越多地用于醫(yī)療器械，例如鋒利的外科器械、針、鉆頭、干擾物、各種裝置部件和牙科應用中的“磨損”部件。PVD涂層主要應用于制造硬質涂層的刀具。主要是錫和氮化鋁基與鋁，硅，鉻和其他元素混合，以改變這些涂層的性能，如附著力，硬度，腐蝕和韌性。通常是為了提高某些性能而降低其他性能。TIALN中有細小的晶粒，這將提高硬度和耐腐蝕性。天星形成了新的結構。無定形夾雜物含有納米微粒。硬度比TIALN高，但很脆。ALCRN具有良好的耐腐蝕性。
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