PVD即物理氣相沉積，是當(dāng)前國際上廣泛應(yīng)用的先進(jìn)的表面處理技術(shù)。其工作原理就是在真空條件下，利用氣體放電使氣體或被蒸發(fā)物質(zhì)部分離化，在氣體離子或被蒸發(fā)物質(zhì)離子轟擊作用的同時(shí)把蒸發(fā)物或其反應(yīng)物沉積在基材上。它具有沉積速度快和表面清潔的特點(diǎn)，特別具有膜層附著力強(qiáng)、繞性好、可鍍材料廣泛等優(yōu)點(diǎn)。 采用全球先進(jìn)的磁控濺射離子鍍膜和多弧離子鍍膜工藝設(shè)備，及在此基礎(chǔ)之上與國際專家的工藝創(chuàng)新。憑借在裝飾鍍行業(yè)十多年的寶貴經(jīng)驗(yàn)，為客戶提供最適合的涂層加工方案。
PVD鍍膜的屬性
?金屬外觀 顏色均勻一致 耐久的表面，在各種基本的空氣和直射陽光環(huán)境條件下永久保持良好外觀。顏色深韻、光亮。
?經(jīng)濟(jì)，可減少清洗和擦亮電鍍黃銅或金色所必須的時(shí)間和成本。
?對(duì)環(huán)境無害，避免化學(xué)中毒和VOC的散發(fā)。
?具生物兼容性。
PVD鍍膜特性
?卓越的附著力，可以折彎90度以上不發(fā)生裂化或者剝落（PVD鍍膜持有很高附著力和耐久力）。其它的技術(shù)，包括電鍍，噴涂都不能與其相比。
?可以蝕刻出任何能夠想象出的設(shè)計(jì)圖案。
?可以使用在內(nèi)裝修或者室外。
?真空鍍膜，抗氧化，抗腐蝕。耐腐蝕，化學(xué)性能穩(wěn)定，抗酸。手機(jī)外殼PVD鍍膜抵抗力。

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