PVD真空鍍膜是在由真空中將鈦、石墨、金、水晶等金屬或非金屬、氣體等材料利用濺射、蒸發(fā)或離子鍍等技術(shù)，在基材上形成薄膜的一種表面處理過程。與傳統(tǒng)化學(xué)鍍膜方法相比，PVD有很多優(yōu)點(diǎn)：如對(duì)環(huán)境無污染，是綠色環(huán)保工藝；對(duì)操作者無傷害；膜層牢固、致密性好、抗腐蝕性強(qiáng)，膜厚均勻。

PVD技術(shù)中經(jīng)常使用的方法主要有：蒸發(fā)鍍膜（包括電弧蒸發(fā)、電子槍蒸發(fā)、電阻絲蒸發(fā)等技術(shù)）、濺射鍍膜（包括直流磁控濺射、中頻磁控濺射、射頻濺射等技術(shù)），這些方法統(tǒng)稱物理氣相沉積（Physical Vapor Deposition），簡(jiǎn)稱為PVD。行業(yè)內(nèi)通常所說的“IP”（ion plating）離子鍍膜，是因?yàn)樵赑VD技術(shù)中各種氣體離子和金屬離子參與成膜過程并起到重要作用，為了強(qiáng)調(diào)離子的作用，而統(tǒng)稱為離子鍍膜。

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