裝飾膜的鍍制工藝

1．金屬件裝飾膜鍍制工藝

比較成熟的鍍膜技術有電弧離子鍍、磁控濺射離子鍍和復合離子鍍。下面分別從各類鍍膜技術中選取一種具有代表性的典型鍍制工藝進行介紹。

1.1用電弧離子鍍的方法為黃銅電鍍亮鉻或鎳手表殼鍍制ticn膜。

采用小弧源鍍膜機和脈沖偏壓電源；

(1)工件清洗、上架、入爐

工件在入爐之前要經(jīng)過超聲波清洗、酸洗和漂洗三道工序。

首先是在超聲波清洗槽中放入按使用要求配制的金屬清洗劑，利用超聲波進行脫脂、清洗。清洗之后，進行酸洗，它可以中和超聲波清洗時殘余的堿液，還能起到活化處理的作用。然后進行漂洗以徹底除去酸液，漂洗時必須采用去離子純凈水或蒸餾水。經(jīng)過三洗后，即時進行烘干，溫度一般控制在100℃左右，時間為1h左右。也可以風吹干后馬上人爐。

(2)鍍膜前的準備工作

①清潔真空鍍膜室。用吸塵器將真空鍍膜室清潔一遍。當經(jīng)過多次鍍膜時，真空鍍膜室的內(nèi)襯板還需作定期清洗，一般是半個月清洗一次。

②檢查電弧蒸發(fā)源。工作前，要確保電弧蒸發(fā)源發(fā)源安裝正確，絕緣良好，引弧針控制靈活,程合適，恰好能觸及陰極表面。

③檢查工件架的絕緣情況。工件架與地之間的絕緣必須須良好，負偏壓電源與工件架的接觸點點必須接觸良好。

以上幾項工作確保沒有問題后，才可以關閉真空鍍膜室的門，進行抽氣和鍍膜。

(3)抽真空

真空抽至6.6 x 10-3pa。開始是粗抽，從大氣抽至5pa左右，用油擴散泵進行細抽。在粗抽時，可以烘烤加熱至150℃。伴隨鍍膜室溫度的升高，器壁放氣會使真空度降低，然后又回升，等到溫度回升到6.6 x 10-3pa時方可進行鍍膜工作。

(4)轟擊清洗

①氬離子轟擊清洗

真空度：通人高純度氬氣(99.999%)真空度保持在2～3pa。轟擊電壓：800～1000v。轟擊時間：10min.

此刻在真空鍍膜室內(nèi)發(fā)生輝光放電，放電產(chǎn)生的氬離子以較高的能量撞擊工件表面，將工件表面吸附的氣體、雜質(zhì)和工件表面層原子濺射下來，露出材料的新鮮表面。

②鈦轟擊

真空度：通人高純度氬氣使真空度保持在2 x 10-2pa。脈沖偏壓：400～500v，占空比20%。電弧電流：60～80a，輪換引燃電弧蒸發(fā)源，每個電弧蒸發(fā)源引燃1～2min。

(5)鍍膜

①鍍鈦

真空度：通人高純度氬氣，真空度保持在2 x 10-2pa。脈沖偏壓：200～300v，占空比50 %。電弧電流：60～80a，引燃全部弧源，時間2～3min.

②鍍ticn

真空度：通人高純度氮氣使真空度保持在(3～8) x 10-1pa，然后再逐漸加大c2h2氣體，隨著c2h2氣體量增大，色澤由金黃一赤金黃一玫瑰金一黑色變化?？刂苙2與c2h2兩種氣體的比例可以達到預定的色度。

電弧電流：50～70a。脈沖偏壓：100～150v，占空比60 %～80 %。沉積溫度：200℃左右。鍍膜時間：10～20min，膜層厚度0.2～0.5μm。

(6)冷卻

鍍膜工序結束后，首先關閉電弧電源和偏壓電源，然后關閉氣源、停轉(zhuǎn)架。工件在真空鍍膜室內(nèi)冷卻至80～100℃時，向鍍膜室內(nèi)充大氣，取出工件。