PVD涂層主要包括多弧電鍍和磁控濺射電鍍。該多弧電鍍?cè)O(shè)備結(jié)構(gòu)簡單,易于操作。其離子蒸發(fā)源可由電焊機(jī)供電,引弧過程也類似于電焊。具體地說,在一定的工藝壓力下,引弧針與蒸發(fā)離子源短暫接觸,并斷開與放電氣體的連接。由于多弧電鍍的原因主要是通過連續(xù)移動(dòng)弧斑在蒸發(fā)源表面連續(xù)形成熔池,使金屬蒸發(fā)沉積在襯底上得到薄膜層,與磁控濺射相比,多弧電鍍具有靶材利用率高、金屬離子離子化率高、薄膜與襯底結(jié)合力強(qiáng)的優(yōu)點(diǎn)。
多弧涂層的顏色相對(duì)穩(wěn)定,特別是在制備氮化鈦涂層時(shí),每批均很容易獲得同樣穩(wěn)定的金黃色,這使得磁控濺射法難以實(shí)現(xiàn)。多弧電鍍的缺點(diǎn)是,在使用傳統(tǒng)DC電源作為低溫涂層的情況下,當(dāng)涂層厚度達(dá)到0.3m時(shí),沉積速率接近反射率,使得成膜非常困難。此外,電影的表面開始變得模糊。多弧電鍍的另一個(gè)缺點(diǎn)是,由于金屬熔化后蒸發(fā),沉積的顆粒較大,密度低,耐磨性比磁控濺射差。
PVD涂層可以提供更好的邊緣保持力,防止氧化和腐蝕,在切割過程中保持清潔,并且不會(huì)與骨骼、組織或體液發(fā)生反應(yīng)。因此,它越來越多地用于醫(yī)療器械,例如鋒利的外科器械、針、鉆頭、干擾物、各種裝置部件和牙科應(yīng)用中的“磨損”部件。PVD涂層主要應(yīng)用于制造硬質(zhì)涂層的刀具。主要是錫和氮化鋁基與鋁,硅,鉻和其他元素混合,以改變這些涂層的性能,如附著力,硬度,腐蝕和韌性。通常是為了提高某些性能而降低其他性能。TIALN中有細(xì)小的晶粒,這將提高硬度和耐腐蝕性。天星形成了新的結(jié)構(gòu)。無定形夾雜物含有納米微粒。硬度比TIALN高,但很脆。ALCRN具有良好的耐腐蝕性。
- pvd真空鍍膜設(shè)備需要的環(huán)境要求
- pvd真空鍍膜機(jī)濺鍍的基本原理是什么?
- PVD鍍膜幾個(gè)“小”優(yōu)點(diǎn)
- 分享pvd真空鍍膜設(shè)備檢漏方法
- 真空鍍膜技術(shù)的應(yīng)用領(lǐng)域
- 網(wǎng)上找的PVD真空鍍膜廠家信息真的靠譜嗎
- PVD真空鍍膜這些特點(diǎn)決定了用途廣泛
- 手機(jī)零配件PVD真空鍍膜技術(shù)如此流行的原因
- 如何讓PVD真空鍍膜非常均勻?
- 世界各國PVD鍍膜行業(yè)競爭格局分析