PVD涂層是指在真空條件下使用低電壓、大電流電弧放電技術，使用氣體放電來蒸發(fā)目標并電離蒸發(fā)的物質和氣體，以及使用電場加速將蒸發(fā)的物質及其反應產物沉積在工件上。PVD涂層是一個復雜的過程，特別是應用于工具和模具的PVD涂層要求涂層的所有方面都有很高的性能。在涂布過程中，許多因素會影響涂層的性能。

1、薄膜的生長提高了溫度，有利于改善薄膜的結構和性能。氮化鈦、氮化鈦等涂層。在400-600℃的合適溫度下可以獲得較好的硬度和結合力。

2、PVD鍍膜過程中的溫度與結合力、硬度等沒有線性關系。在涂覆過程中，溫度過低，薄膜生長不充分，表面粗糙，耐蝕性和顯微硬度降低。高溫容易產生粗大的柱狀晶體。導致基體材料結構惡化，結合力下降，薄膜性能下降。

3、提高襯底溫度可以去除揮發(fā)性殘留物，增強表面擴散和再結晶。界面反應加速，底層雜質擴散。基質融化了。增加晶體顆粒的大小。促進再結晶界面的外延生長、降低內應力、增加階梯覆蓋率以及增加與襯底相互作用所需的涂層溫度取決于工件的金相結構、熱處理、工件幾何形狀，例如銳邊、薄板的快速加熱以及溫度測量非常困難。電弧電流、基體偏壓和反應壓力也會影響溫度。涂層可在180開始。工件應在不會引起材料物理變化的溫度下進行涂覆。

4、pvd涂層溫度超過回火點，使工件變軟。

5、如鍍膜真空室零件較少，工件周圍會聚集較多的等離子體，會導致工件溫度較高和沉積速率較高。

PVD涂層工藝對環(huán)境沒有不利影響，符合現(xiàn)代綠色制造的發(fā)展方向。目前，PVD涂層技術已廣泛應用于硬質合金立銑刀、鉆頭、臺階鉆、油孔鉆、鉸刀、絲錐、可轉位銑刀片、異形刀具、焊接刀具等的涂層處理。PVD技術不僅提高了薄膜與工具基體材料之間的結合強度，而且將第一代氮化鈦的涂層成分發(fā)展成多組分復合涂層，如碳化鈦、TiCN、氮化鋯、氮化鉻、二硫化鉬、氮化鈦、氮化鈦鋁、氮化錫、氮化碳、類金剛石碳和鉭碳等。

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