一.pvd真空蒸發(fā)鍍膜

01、定義

pvd真空蒸發(fā)鍍膜是在真空條件下，用蒸發(fā)器加熱蒸發(fā)物質(zhì)使之汽化，蒸發(fā)粒子流直接射向基片并在基片上沉積形成固態(tài)薄膜的技術(shù)。

02、真空蒸發(fā)踱膜主要經(jīng)歷

1、采用各種能源方式轉(zhuǎn)換成熱能， 加熱膜材使之蒸發(fā)或升華， 成為具有一定能星 ( 0霉 1/'"->J0 . 3 e V) 的氣態(tài)粒子（原子、分子和原子團(tuán)）；

2 、離開膜材表面，具 有相當(dāng)運(yùn)動速度的氣態(tài)粒子以基本上無碰撞的直線飛行輸運(yùn)到基體表面；

3、到達(dá)基體表面的氣態(tài)粒子凝聚形核后生長成固相薄膜；

4、組 成 薄 膜 的 原子重組排列或產(chǎn)生化學(xué)鍵合；

03、原理及特點(diǎn)

原理：

熱蒸發(fā)是在真空狀況下，將所要蒸鍛的材料利用電阻加熱達(dá)到熔化溫度，使原子蒸發(fā)，到達(dá)并附著在基板表面上的一種鍛膜技術(shù)。

特點(diǎn)：

設(shè)備簡單、操作容易

海膜純度高，質(zhì)量好， 厚度可控

速率快、效率高、可用掩膜 獲得清晰圖形

薄膜生長機(jī)理比較單純

缺點(diǎn)：

不易獲得結(jié)晶結(jié)構(gòu)的薄膜

粘膜與基片附著力小

工藝正復(fù)性不夠好

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