真空鍍膜是真空應用領域的一個重要方面。它是以真空技術(shù)為基礎，利用物理或化學方法，吸收電子束、分子束、離子束、等離子體束、射頻和磁控等一系列新技術(shù)，為科學研究和實際生產(chǎn)提供薄膜制備的新技術(shù)。簡而言之，在真空中蒸發(fā)或濺射金屬、合金或化合物以固化并沉積在涂覆物體(稱為基材、基材或基底)上的方法稱為真空涂覆。真空鍍膜技術(shù)一般分為兩類，即物理氣相沉積(PVD)技術(shù)和化學氣相沉積(化學氣相沉積)技術(shù)。

眾所周知，只要在某些材料的表面鍍上一層薄膜，這些材料就可以具有許多新的良好的物理和化學性質(zhì)。20世紀70年代，電鍍和化學鍍是物體表面涂層的主要方法。在前者中，電解質(zhì)通過通電而被電解，并且被電解的離子被鍍在用作另一電極的基板的表面上。因此，襯底必須是良導體，并且膜的厚度難以控制。后者是一種化學還原方法。膜材料必須制成溶液，并能迅速參與還原反應。這種涂覆方法不僅膜的結(jié)合強度差，而且涂層既不均勻均，也不容易控制。同時，會產(chǎn)生大量的廢液，造成嚴重的污染。因此，這兩種被稱為濕法涂布的涂布工藝受到極大的限制。

與濕法鍍膜技術(shù)相比，真空鍍膜技術(shù)具有以下優(yōu)點：
1、膜和基底選擇廣泛，膜厚度可以控制，以制備具有各種功能的功能膜。

2、該薄膜在真空下制備，環(huán)境清潔，不易污染，因此可以獲得致密性好、純度高、涂層均勻的薄膜均。

3、薄膜與基材的結(jié)合強度好，薄膜牢固。

4、干涂層不會產(chǎn)生廢液或環(huán)境污染。

真空鍍膜技術(shù)主要包括真空蒸發(fā)鍍膜、真空濺射鍍膜、真空離子鍍、真空束沉積、化學氣相沉積等方法。

昆山英利悅電子有限公司是一家獨資企業(yè),主營pvd真空鍍膜,pvd鍍膜,pvd工藝,五金鍍膜,金屬鍍膜,浙江鍍膜,位于百強縣級市之首昆山市,地處蘇州及上海交界處,交通便利,環(huán)境優(yōu)美.咨詢電話：13584969897