一、真空蒸發(fā)鍍膜原理

三種主要PVD鍍膜涂層的原理 金屬表面處理 原理 -1

真空蒸發(fā)鍍膜原理如圖所示， 待鍍膜材料和被鍍基板置于真空室內，采用電子束加熱、感應加熱、電阻加熱等方法使待鍍材料蒸發(fā)或升華，并在基板表面凝聚成膜。真空度：等于或低于10-2 Pa，蒸發(fā)溫度與元素有關。

二、PVD電弧離子鍍原理

三種主要PVD鍍膜涂層的原理 金屬表面處理 原理 -2

PVD電弧離子鍍原理如圖所示，陰極和陽極分別接低壓高電流直流電源的負極和正極。真空度為1.0e-1、～1.0e-2pa時， 當引弧電極和陰極靶表面接觸與離開的瞬間引燃電弧，在陰極和陽極之間即可以維持電弧放電，其電流一般為幾到幾百安，電壓一般為10～25V，這時陰極表面上的電流全部集中在一個或多個很小的部位，形成弧光斑點即微點蒸發(fā)源，使靶材蒸發(fā)形成高能原子或離子束流在基板上成膜。

三、PVD磁控濺射原理

三種主要PVD鍍膜涂層的原理 金屬表面處理 原理 -3

PVD磁控濺射原理如圖所示，在高真空狀態(tài)下導人工藝氣體，并在電極的兩端加上高電壓后，產生火花放電。此時等離子體中的正離子在電場的作用下撞擊靶材濺射出靶材的金屬原子。工作壓力一般為1.0e-1~1.0Pa，濺射電壓300-600V平行于靶材表面的磁感應強度為0. 04-0.07T。

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